MC1000离子溅射仪
由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细**需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤
其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。
主要特点：
1. 操作方便且有记忆功能，首 创LCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案； 2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀； 3. 通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。
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